场发射电镜（简称FESEM）和扫描电镜（简称SEM）在材料科学、生物医学、冶金、电子工业等领域中都是重要的分析工具。两者的主要区别可以从以下几个方面进行总结：

1.电子源

SEM通常使用热发射电子枪，常见的形式是钨灯丝，通过加热钨丝使其释放电子。

FESEM采用场发射电子源，这里的电子不是通过加热释放，而是由于在尖锐针尖（如钨针尖）形成的强电场作用下直接发射出来，这种发射可以在较低温度下实现。

2.分辨率

FESEM由于其电子源能够产生更小的电子束斑和更高的电子束亮度，因此能提供比传统SEM更高的分辨率，能够观察到更精细的样品细节，适用于纳米级别的结构分析。

SEM的分辨率相对较低，更适合于一般分辨率的样品观测。

3.成像质量与景深

FESEM具有较大的景深和更高的成像质量，这对于三维结构的观察和分析尤其有利。

SEM虽然也能提供高质量的图像，但在细微结构和深度感知方面不如FESEM。

4.样品制备

FESEM对样品的要求可能较为宽松，因为它的高分辨率能力允许在不严重依赖导电涂层的情况下观察许多样品。

SEM通常需要样品进行导电涂层处理以避免充电效应，尤其是对于非导电样品。

5.应用领域：

FESEM因其高分辨率和高灵敏度，常用于纳米材料、生物样本、半导体材料等对图像质量有极高要求的研究。

SEM则广泛应用于地质、材料科学、生物学等多个领域，适用于一般性的表面形貌和成分分析。

综上所述，场发射电镜是和扫描电镜的一种高 级形式，主要在电子源、分辨率、成像质量等方面有所区别，但也伴随着更高的成本和维护要求。选择哪种类型主要取决于研究的具体需求和可用资源。‍