聚焦离子束电镜（简称FIB）的离子源是这种高 端科学仪器的核心组件之一，它决定了FIB系统的性能和功能。那么，目前聚焦离子束电镜的离子源有哪些？据数据显示，商用系统的离子束多为液态金属离子源，其中镓（Gallium，Ga）离子源是常见选择。以下是几种常见的离子源类型：

1.液态金属离子源

很常见的离子源类型，其中镓（Ga）是很常用的离子材料。镓离子源稳定可靠，易于操作，但镓离子在某些材料中可能引起污染。

镓离子源能够产生高亮度和高电流的离子束，适用于样品的切割、沉积和纳米级加工。

2.惰性气体离子源

使用氦（He）、氖（Ne）等惰性气体作为离子源，这些离子源的离子能量较低，对样品的损伤较小，适用于对损伤敏感的样品分析。

氦离子源尤其在高分辨率成像和轻元素分析方面有优势。

3.铯离子源

新一代的极低温铯离子源被开发出来，以提供更清晰的成像、更高的加工精度和减少样品损伤。

铯离子源可以提供比镓离子源更好的图像质量和更精细的加工能力。

4.氙离子源

氙离子源可以产生高电流的离子束，适合于快速材料去除和大面积加工。

5.电子束离子源

用于产生多种离子，包括重离子，适用于需要高度定制化离子束的应用。

EBIS可以通过电子束激发产生几乎任何元素的离子，提供极大的灵活性。

聚焦离子束电镜的每种离子源的选择取决于具体的实验需求，包括样品特性、所需分辨率、加工速度以及是否需要特定元素的离子。例如，对于需要极高分辨率成像的场合，氦离子源可能是理想选择；而对于需要快速材料去除的加工任务，氙离子源则更为合适。‍